Die von Chipworks sie analysierten im Detail das Gesicht A7 al iPhone 5S und andere Komponenten des neuen Terminals und schaffte es sogar, das Innere des von der amerikanischen Firma entworfenen Chips zu fotografieren. Ohne allzu viele zu überraschen, behaupten die Mitarbeiter von Chipworks, dass dieses Bauteil im 28-nm-Herstellungsprozess hergestellt wird. In den letzten Monaten gab es unzählige Gerüchte, die darauf hindeuten. Wenn Sie sich fragen, woher ein Teil der höheren Rechenleistung kommt, dann der Abstand zwischen den einzelnen Transistoren auf dem Chip A7 beträgt 114 Nanometer, verglichen mit 123 Nanometern, die beim A6-Chip gemessen wurden.
Der „Gate-Pitch“, also der Abstand zwischen den einzelnen Transistoren, im A7 beträgt 114 Nanometer und ist damit kleiner als der 123-Nanometer-Abstand im A6. Dadurch kann Apple auf einer um 6 Prozent größeren Fläche genauso viel Leistung wie beim A77 unterbringen. Der A7-Chip benötigt jedoch insgesamt noch mehr Platz als der A6, was bedeutet, dass der zusätzliche Platz, der durch den 28-Nanometer-Prozess geboten wird, es Apple ermöglicht hat, die Leistung seines neuesten Mobilprozessors deutlich zu verbessern.
Die Verwendung des 28-nm-Herstellungsprozesses lieferte diese von Apple und die Möglichkeit, die Energieeffizienz seines neuen Gesichtes zu verbessern, was als große Weiterentwicklung im Vergleich zum Vorgängermodell dargestellt wird. Bis jetzt iPhone 5S Den ersten Benchmarks zufolge wurde es als das schnellste Smartphone der Welt eingestuft und dieser A7-Chip ist die Grundlage für seine sehr gute Leistung.
