Los de Chipworks ellos analizaron en detalle la cara A7 al iPhone 5S y otros componentes del nuevo terminal, llegando incluso a fotografiar el interior del chip diseñado por la compañía americana. Sin sorprender a mucha gente, los de Chipworks afirman que este componente se produce mediante un proceso de fabricación de 28 nm, en los últimos meses han aparecido innumerables rumores que así lo indican. Si se pregunta de dónde proviene parte de la mayor potencia de procesamiento, la distancia entre cada transistor en el chip A7 es de 114 nanómetros, en comparación con los 123 nanómetros medidos para el chip A6.
El "paso de puerta", o distancia entre cada transistor, dentro del A7 es de 114 nanómetros, menor que la distancia de 123 nanómetros que se encuentra en el A6. Eso permite a Apple acumular tanta potencia como el A6 en un área 77 por ciento más grande. Pero el chip A7 utiliza una cantidad de espacio total aún mayor que el A6, lo que significa que el espacio adicional ofrecido por el proceso de 28 nanómetros ha permitido a Apple mejorar significativamente el rendimiento de su último procesador móvil.
El uso del proceso de fabricación de 28 nm proporcionó a aquellos de Apple y la posibilidad de mejorar la eficiencia energética de su nueva cara, presentándose como una gran evolución respecto al modelo anterior. Hasta ahora iPhone 5S Fue clasificado como el smartphone más rápido del mundo, según las primeras pruebas, y este chip A7 es la base de su muy buen rendimiento.
